इलेक्ट्रिकल इंजीनियरिंग और इलेक्ट्रॉनिक प्रौद्योगिकी जर्नल

विभिन्न लेजर ऊर्जाओं पर एनडी:वाईएजी लेजर विकिरण का प्रयोग करके MoS2 नैनोशीट का अपचयन और ट्रिबोलॉजी में संभावित अनुप्रयोग

एब्रिनेई एफ

हाइड्रोथर्मल विधि का उपयोग करके संश्लेषित MoS2 नैनोशीट को एक्सफोलिएट करने के लिए एक नई विधि लागू की गई थी। MoS2 _{नैनोशीट} को ₅ ns पल्स अवधि के साथ 532 nm पर संचालित एक Ng:YAG लेजर का उपयोग करके 15 मिनट के लिए विभिन्न ऊर्जाओं 40, 60 और 80 mJ के साथ विकिरणित किया गया था। MoS2 नैनोशीट के अवशोषण मूल्यांकन पर लेजर ऊर्जा के प्रभावों की जांच करने के लिए _, UV-Vis स्पेक्ट्रोस्कोपी तकनीक लागू की गई और 4.3- 4.6 eV की सीमा में ऊर्जा बैंड अंतराल की गणना की गई। तैयार MoS2 नैनोशीट के लिए एक षट्कोणीय संरचना के सफल गठन की _{पुष्टि XRD विश्लेषण द्वारा की गई थी। लेजर ऊर्जा में वृद्धि से MoS2} नैनोशीट के क्रिस्टलीय आकार में 50 से 15 एनएम तक की कमी XRD जांच का परिणाम थी। MoS2 नैनोशीट की TEM छवियों को _{विभिन्न} लेजर विकिरण ऊर्जाओं के बाद होने वाले संरचनात्मक विचलन की जांच करने के लिए प्रदर्शित किया गया था। TEM परिणामों से संकेत मिलता है कि अंतिम MoS ₂ नैनोशीट कम परत वाली हैं और इनका आकार वितरण एक समान है। लेज़र ऊर्जा में 40 से 80 mJ तक की वृद्धि के कारण रमन स्पेक्ट्रा में हल्का लाल-शिफ्ट और नीला-शिफ्ट देखा गया। MoS ₂ नैनोशीट के लेज़र ऊर्जा पर निर्भर ट्रिबोलॉजिकल गुणों की जाँच की गई। लेज़र ऊर्जा में वृद्धि करके ज़ीटा संभावित मानों में वृद्धि देखी गई। लेज़र ऊर्जा में वृद्धि से श्यानता सूचकांक में वृद्धि होती है। 80 mJ लेज़र ऊर्जा के तहत विकिरणित होने पर MoS ₂ नैनोशीट एडिटिव युक्त बेस ऑयल के लिए घर्षण गुणांक में कमी आई। परिणामों का तात्पर्य है कि लेज़र विकिरण न केवल MoS 2 नैनोशीट _के हाइड्रोलिक गुणों _{में सुधार कर सकता है}