जर्नल ऑफ़ नैनोमटेरियल्स एंड मॉलिक्यूलर नैनोटेक्नोलॉजी

रासायनिक वाष्प निक्षेपण (सी.वी.डी.) द्वारा बहुपरत ग्राफीन का विकास और अभिलक्षण

दत्ता डी, हाजरा ए, दास जे, हाजरा एसके, लक्ष्मी वीएन, सिन्हा एसके, जियानोसेली ए, सरकार सीके और बसु एस

रासायनिक वाष्प निक्षेपण (सी.वी.डी.) द्वारा बहुपरत ग्राफीन का विकास और अभिलक्षण

नैनोस्ट्रक्चर्ड विन्यास वाला ग्राफीन विज्ञान और प्रौद्योगिकी के विभिन्न क्षेत्रों में अपने बहुमुखी अनुप्रयोगों के लिए एक संभावित सामग्री साबित हुआ है। सिंगल लेयर ग्राफीन का विकास एक वास्तविक चुनौती है, लेकिन हाल ही में कुछ लेयर और मल्टीलेयर ग्राफीन भी बहुत उपयोगी साबित हुए हैं। वर्तमान जांच में, थर्मल सीवीडी विधि का उपयोग करके थर्मल ऑक्सीडाइज्ड सिलिकॉन सब्सट्रेट पर जमा तांबे (Cu) उत्प्रेरक फिल्म का उपयोग करके 1000 डिग्री सेल्सियस और वायुमंडलीय दबाव पर उच्च शुद्धता वाले हाइड्रोजन के साथ मिश्रित मीथेन (CH4) के अपघटन द्वारा मल्टीलेयर ग्राफीन पतली फिल्म विकसित करने के लिए किया गया था।